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霍尔效应测试仪(HEM)

可用于一般半导体材料的霍尔系数、电阻率、电子迁移率、载流子浓度的常温测量,是研究半导体和电子材料的电子特性的重要工具。

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项目

技术参数

标准样品

Si,SiC,ZnO,CaN,ITO等半导体薄膜(P,N型)

磁场强度

0.6T

温度范围

RT

磁场稳定性

±1%/年

输出电流

100nA~500mA

迁移率

2-10c㎡/V*sec

电阻率

10-5-10Ωcm

载流子浓度

108-102/cm3

样品测量尺寸

10*10mm~20*20mm,厚度10nm~2mm

测试标准

AsTm F76-1985

1、高精度电流源,输出精度可达0.1微安,可测量大部分半导体材料。

2、高精度电压源,24位ADC采集,精度可达微伏级。

3、可靠的重复性,软硬件设计多重滤波,使测量数据更稳定,确保每个实验数均为多次测试好的平均值。

4、简约大气的外观设计,仪器连接操作简单,完成样品信息设置后,用户可一键点击测试, 即可同时得到电阻率、载流子浓度、霍尔系数与方阻数据。

5、测试速度快,支持快速切换电流与磁场方向,通过范德堡法进行数据处理。